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首頁-產(chǎn)品系統(tǒng)-管式爐-1200℃迷你型真空氣氛管式爐
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1200℃迷你型真空氣氛管式爐適用范圍：主要應(yīng)用于院校實驗室、工礦企業(yè)實驗室，應(yīng)用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴(kuò)散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
更新日期：2024-05-08
型號：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
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